Охорона праці
Постійний URI для цього зібранняhttps://repositary.knuba.edu.ua/handle/987654321/1442
Переглянути
2 результатів
Результати пошуку
Документ Методичні засади автоматизації проектування рідких композиційних матеріалів для екранування електромагнітних полів(Черкаський технологічний університет, 2022-11) Бурдейна, Н.Б.; Бірук, Я.І.Дослідження, виконані в останні роки демонструють перспективність застосування рідких матеріалів для екранування електромагнітних полів. Але проектування захисних сумішей стикається з низкою проблем. Ці суміші є композиційними, складаються принаймні з трьох компонентів, що мають різні магнітні та електрофізичні властивості. Крім того, потрібно враховувати параметри полів, які потребують екранування. У загальному випадку у процесі проектування захисного матеріалу необхідно враховувати електрофізичні властивості матриці, магнітні та електрофізичні властивості кожного з екрануючих наповнювачів та їх концентрації.Документ Підвищення ефективності композиційних електромагнітних екранів регулюванням морфології феромагнітного наповнювача(ПНТУ, 2020) Касаткіна, Н.В.; Тихенко, О.М.; Панова, О.В.; Бірук, Я.І.Встановлено, що при проектуванні композиційних металополімерних електромагнітних екранів необхідно врахувати морфологію частинок екрануючої субстанції – принаймні співвідношення довжини та товщини окремих частинок. Визначено, що різке зростання захисних властивостей відбувається за концентрацій екрануючих елементів, коли вони контактують між собою (критична концентрація). Найбільша критична концентрація (до 47 %) відповідає співвідношенню довжини та діаметру частинок 1:2. Зі зростанням співвідношення критична концентрація монотонно зменшується. За співвідношення 1:32 вона складає 15 %. Показано, що некоректні результати розрахунку діелектричної проникності композиційних матеріалів для визначення коефіцієнтів екранування, зокрема коефіцієнта відбиття електромагнітних хвиль обумовлені невірним розрахунком коефіцієнтів деполяризації, які є визначними щодо обчислення критичних об’ємних концентрацій провідної субстанції у матриці композиційного матеріалу. В свою чергу значення критичної концентрації входить до формули Оделевського для розрахунку діелектричної проникності гетерогенних композиційних матеріалів. Наведені розрахунки впливу співвідношення довжини та діаметра екрануючих елементів придатні для застосування (прогнозування функціоналу) тільки для композитів з вмістом однакових спеціально виготовлених екрануючих елементів. Розрахунки для умовно круглих (точкових) екрануючих частинок не збігаються з надійними експериментальними даними. Для такого наповнювача критична концентрація (за вагою) − 12−15 %. Прогнозування захисних властивостей композитів з використанням дрібнодисперсної субстанції (принаймні до розмірів частинок 150−200 мкм) доцільно здійснювати на основі визначення електрофізичних властивостей суміші. Наведено спосіб застосування для таких розрахунків формули Дебая для діелектричної проникності матеріалу